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Interface state density at the contact of ferroelectric NaNO2 and silicon

Schulz, Joachim; Koch, Steffen; Wuerfel, Peter; Ruppel, Wolfgang; Thiemann, Ulrich; Muench, Waldemar von



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 151589
Erscheinungsvermerk Ferroelectr. 99 (1989) S. 87-100.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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