Interface state density at the contact of ferroelectric NaNO2 and silicon
Schulz, Joachim
; Koch, Steffen; Wuerfel, Peter; Ruppel, Wolfgang; Thiemann, Ulrich; Muench, Waldemar von
; Koch, Steffen; Wuerfel, Peter; Ruppel, Wolfgang; Thiemann, Ulrich; Muench, Waldemar von| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1989 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 151589 |
| Erscheinungsvermerk | Ferroelectr. 99 (1989) S. 87-100. |