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Overhauser shift of the electron spin-resonance line of Si:P at the metal-insulator transition. I. Integral shift

Fasol, Ulrike; Dormann, Elmar



Zugehörige Institution(en) am KIT Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0953-8984
KITopen ID: 15312001
Erschienen in Journal of physics: Condensed matter
Band 13
Seiten 10065-10075
Bemerkung zur Veröffentlichung Sonderdrucknummer 2002S23
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