Scaling behavior of the Hall coefficient of Si:P at the metal-insulator transition
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Physikalisches Institut (PHI) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 167997 |
| Erscheinungsvermerk | Z. f. Phys. B 102 (1997) S. 473-478. |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Sonderdrucknummer 98S83 |