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Ti- and Be-x-ray masks with alignment windows for the liga process

Schomburg, W. K.; Baving, H. J.; Bley, Peter


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1991
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 16891
HGF-Programm 16.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 13
Seiten 323-26
Erscheinungsvermerk Microelectron. engng. 13 (1991) S. 323-326.
Bemerkung zur Veröffentlichung Sonderdrucknummer 91S239
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