Diffusion measurement of implanted Sb into Si, using SiO₂ encapsulation

Kotai, E.; Nagy, T.; Meyer, O.; Gyulai, J.; Revesz, P.; Mezey, G.; Lohner, T.; Manuaba, A.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1978
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170012560
Seiten	573-81
Erscheinungsvermerk	Gyulai, J., Lohner, T., Pasztor, E.[Hrsg.]: Internat.Conf.on Ion Beam Modification of Materials, Budapest, September 4-8, 1978. Proc. Budapest: KFKI 1978. Vol.1