Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
Publikationsjahr | 1979 |
Sprache | Englisch |
Identifikator | KITopen-ID: 170013478 |
Seiten | 289-99 |
Erscheinungsvermerk | Sedgwick, T.O.; Lydtin, H.[Hrsg.]: Chemical Vapor Deposition, 7.Interat.Conf., Los Angeles, USA, October 14-19, 1979. Princeton, N.J.: Electrochem.Soc.1979. |