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Influence of ion implantation on the electrochemical behaviour of passive titanium and hafnium electrodes

Danzfuss, B.; Schultze, J. W.; Stimming, U.; Meyer, O.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 1984
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 170020485
Seiten 503-08
Erscheinungsvermerk Froment, M. [Hrsg.] Passivity of Metals and Semiconductors. Proc.of the 5th Internat.Symp.on Passivity, Bombannes, F, May 30 - June 3, 1983 Amsterdam [u.a.]: Elsevier 1983 (Thin Films Science and Technology; 4)
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