Influence of ion implantation on the electrochemical behaviour of passive titanium and hafnium electrodes

Danzfuss, B.; Schultze, J. W.; Stimming, U.; Meyer, O.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1984
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170020485
Seiten	503-08
Erscheinungsvermerk	Froment, M. [Hrsg.] Passivity of Metals and Semiconductors. Proc.of the 5th Internat.Symp.on Passivity, Bombannes, F, May 30 - June 3, 1983 Amsterdam [u.a.]: Elsevier 1983 (Thin Films Science and Technology; 4)