Beryllium - Masken fuer die Roentgenlithographie

Schelb, W.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.; Baving, H. J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1987
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 170024156
Seiten	85-103
Erscheinungsvermerk	Fachtagung Maskentechnik fuer Mikroelektronik-Bausteine, Muenchen, 10.November 1987 Duesseldorf : VDI-Verl., 1987. - (VDI-Berichte ; 666)