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Beryllium - Masken fuer die Roentgenlithographie

Schelb, W.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.; Baving, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 1987
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 170024156
Seiten 85-103
Erscheinungsvermerk Fachtagung Maskentechnik fuer Mikroelektronik-Bausteine, Muenchen, 10.November 1987 Duesseldorf : VDI-Verl., 1987. - (VDI-Berichte ; 666)
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