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Composition and structure of plasma deposited a-C:H,F films

Fink, J.; Nuecker, N.; Sah, R. E.; Koidl, P.; Baumann, H.; Bethge, K.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 1988
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 170024245
Seiten 475-80
Erscheinungsvermerk Proc.of the European Materials Research Society Meeting, Strasbourg, F, June 2-5, 1987 Paris : Edition de Physique, 1987. - Vol. XVII
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