Composition and structure of plasma deposited a-C:H,F films

Fink, J.; Nuecker, N.; Sah, R. E.; Koidl, P.; Baumann, H.; Bethge, K.

Seitenaufrufe: 28
seit 13.06.2019

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1988
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170024245
Seiten	475-80
Erscheinungsvermerk	Proc.of the European Materials Research Society Meeting, Strasbourg, F, June 2-5, 1987 Paris : Edition de Physique, 1987. - Vol. XVII