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Elektronenstrahllithographie und Simulationsrechnungen fuer die Herstellung von Roentgenmasken beim LIGA-Verfahren

Hein, H.; Bley, P.; Goettert, J.; Klein, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 1992
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 170032210
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Seiten 75-86
Erscheinungsvermerk Geraetetechnik und Mikrosystemtechnik : Kongress, Chemnitz, 16.-18.Maerz 1992 Band 1 Duesseldorf : VDI-Verl., 1992. - (VDI-Berichte ; 960)
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