Laser induced etching of silicon with fluorine and chlorine and with mixtures of both gases
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 170033453 |
| HGF-Programm | 52.01.13 (Vor POF, LK 01) |
| Seiten | 820-23 |
| Erscheinungsvermerk | Weidelich, W. [Hrsg.] Laser in Engineering : Proc.of the 11th Internat.Congress, München, June 21-25, 1993 Berlin [u.a.] : Springer, 1994 |