Chemical characterisation in depth-profiling of organic material. Part I: Nitrogen, oxygen and halogenes in organic compounds. Part II: Recognition of hydrocarbon structure of organic compounds

Bentz, J. W. G.; Fichtner, M.; Goschnick, J.; Häcker, C. J.; Ache, H. J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1995
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170034672
HGF-Programm	22.02.05 (Vor POF, LK 01)
Seiten	768-75
Erscheinungsvermerk	Benninghoven, A. [Hrsg.] Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS IX) : Proc.of the 9th Internat.Conf., Yokohama, J, November 7-12, 1993 Chichester [u.a.] : John Wiley and Sons, 1994