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Chemical characterisation in depth-profiling of organic material. Part I: Nitrogen, oxygen and halogenes in organic compounds. Part II: Recognition of hydrocarbon structure of organic compounds

Bentz, J.W.G.; Fichtner, M.; Goschnick, J.; Häcker, C.J.; Ache, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 170034672
HGF-Programm 22.02.05 (Vor POF, LK 01)
Seiten 768-75
Erscheinungsvermerk Benninghoven, A. [Hrsg.] Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS IX) : Proc.of the 9th Internat.Conf., Yokohama, J, November 7-12, 1993 Chichester [u.a.] : John Wiley and Sons, 1994
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