Evaluation of an advanced silicon doped CFC for plasma facing material

Wu, C. H.; Alessandrini, C.; Bonal, P.; Caso, A.; Grote, H.; Moormann, R.; Perujo, A.; Balden, M.; Werle, H.; Vieider, G.

Seitenaufrufe: 19
seit 14.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Neutronenphysik und Reaktortechnik (INR)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1997
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170039960
HGF-Programm	31.02.02 (Vor POF, LK 01)
Seiten	327-30
Erscheinungsvermerk	Varandas, C. [Hrsg.] Fusion Technology 1996 : Proc.of the 19th Symp., Lisboa, P, September 16-20, 1996 Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1997 Vol.1