Zugehörige Institution(en) am KIT | ITC – Bereich Chemisch-Physikalische Verfahren (ITC-CPV) |
Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
Publikationsjahr | 1996 |
Sprache | Englisch |
Identifikator | KITopen-ID: 170040677 |
HGF-Programm | 21.02.02 (Vor POF, LK 01) |
Seiten | 61-66 |
Erscheinungsvermerk | Rohr, Rudolf von [Hrsg.] High Pressure Chemical Engineering : Proc.of the 3rd Internat.Symp., Zürich, CH, October 7-9, 1996 Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1996 (Process Technology Proceedings ; 12) |