Future reticle demand and next generation lithography technologies
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 1999 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 170044540 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components '98 : Lectures Held at the GMM Conf., München, November 16-17, 1998 Berlin [u.a.] : VDE-Verl., 1998 S.9-16 (GMM-Fachbericht ; 25) Behringer, U. [Hrsg.] 15th European Conf.on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents '98, München, November 16-17, 1998 Bellingham, Wash. : SPIE, 1999 S.1-8 (SPIE Proceedings Series ; 3665) |