Microstructural characterisation of TiC-TiN gradient coatings deposited by non-reactive magnetron sputtering

Leiste, H.; Stüber, M.; Schier, V.; Holleck, H.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	1999
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170044576
HGF-Programm	42 (Vor POF, LK 01)
Seiten	467-75
Erscheinungsvermerk	Functionally Graded Materials : Proc.of the 5th Internat.Symp., Dresden, October 26-29, 1998 Uetikon-Zürich : Trans Tech Publ., 1999 (Materials Science Forum ; 308-311)