| Zugehörige Institution(en) am KIT | ITC – Bereich Chemisch-Physikalische Verfahren (ITC-CPV) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 170045203 |
| HGF-Programm | 21.14.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Manghnani, M.H. [Hrsg.] Science and Technology of High Pressure : Proc.of AIRAPT-17, Honolulu, Hawaii, July 25-30, 1999 Vol.2 S.954-57 Hyderabad : Universities Press, 2000 Dahmen, N.; Dinjus, E. [Hrsg.] High Pressure Chemical Engineering : Proc.of the Internat.Meeting of the GVC-Fachausschuß 'Hochdruckverfahrenstechnik', Karlsruhe, March 3-5, 1999 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6271 (Juni 99) S.111-14 |