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Simulation of structure profiles in optical lithography of thick DNQ-Novolak based photoresists

Chung, S.J.; Schulz, J.; Hein, H.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 170046976
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Seiten 1226-35
Erscheinungsvermerk Houlihan, F.M. [Hrsg.] Advances in Resist Technology and Processing XVII, 17th Annual SPIE Conf., Santa Clara, Calif., February 27 - March 1, 2000 Bellingham, Wash. : SPIE, 2000 (SPIE Proceedings Series ; 3999)
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