Simulation of structure profiles in optical lithography of thick DNQ-Novolak based photoresists
Chung, S. J.; Schulz, J.
; Hein, H.; Mohr, J.
; Hein, H.; Mohr, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 170046976 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Seiten | 1226-35 |
| Erscheinungsvermerk | Houlihan, F.M. [Hrsg.] Advances in Resist Technology and Processing XVII, 17th Annual SPIE Conf., Santa Clara, Calif., February 27 - March 1, 2000 Bellingham, Wash. : SPIE, 2000 (SPIE Proceedings Series ; 3999) |