Concept of a MEMS process software specially dedicated to the deep X-ray lithography process

; Solf, C.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2004
Sprache	Englisch
Identifikator	ISBN: 90-77381-12-0 KITopen-ID: 170058426
HGF-Programm	41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Seiten	195-97
Erscheinungsvermerk	Marin, J, [Hrsg.] Industrial Simulation Conf., Malaga, E, June 7-9, 2004 Gent : EUROSIS-ETI, 2004