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Concept of a MEMS process software specially dedicated to the deep X-ray lithography process

Meyer, P.; Schulz, J.; Solf, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 90-77381-12-0
KITopen ID: 170058426
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Seiten 195-97
Erscheinungsvermerk Marin, J, [Hrsg.] Industrial Simulation Conf., Malaga, E, June 7-9, 2004 Gent : EUROSIS-ETI, 2004
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