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Neue Halterungstechnik für Silizium-Wafer und Kupfer-Substrate in der Mikrogalvanoformung

Guttmann, M.; Bade, K. ORCID iD icon; Matthis, B.; Schulz, J. ORCID iD icon; Moritz, H.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2004
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 170058900
HGF-Programm 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Seiten 301-06
Erscheinungsvermerk 42.Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für Galvano- und Oberflächentechnik (DGO), Dresden, 22.-24.September 2004 Proc.
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