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Vollständige Prozesskette zur Herstellung von Nickel-Formeinsätzen auf Basis von 6 Zoll Si-Wafern mit Hilfe der UV-Lithographie und des Resistsystems EPON SU-8

Hein, H.; Guttmann, M.; Wilson, S.; Jonigk, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2005
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 3-8007-2926-1
KITopen ID: 170062368
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Seiten 565-68
Erscheinungsvermerk Mikrosystemtechnik Kongress 2005, Freiburg, 10.-12.Oktober 2005 Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2005 Inkl.CD-ROM
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