Vollständige Prozesskette zur Herstellung von Nickel-Formeinsätzen auf Basis von 6 Zoll Si-Wafern mit Hilfe der UV-Lithographie und des Resistsystems EPON SU-8
Hein, H.; Guttmann, M.
; Wilson, S.; Jonigk, C.
; Wilson, S.; Jonigk, C.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISBN: 3-8007-2926-1 KITopen-ID: 170062368 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE |
| Seiten | 565-68 |
| Erscheinungsvermerk | Mikrosystemtechnik Kongress 2005, Freiburg, 10.-12.Oktober 2005 Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2005 Inkl.CD-ROM |