Plasmon mediated resonant transmission through an undulated metal film used as information carrier

Jourlin, Y.; Tishchenko, A. V.; Pedri, C.; Reynaud, S.; Tonchev, S.; Parriaux, O.; Last, A.; Mohr, J.; Lacroute, Y.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2008
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170073054
HGF-Programm	43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Seiten	322-23
Erscheinungsvermerk	Technical Digest of the 14th Microoptics Conf., Bruxelles, B, September 25-27, 2008 Tokyo : Optical Society of Japan, Microoptics Group, 2008