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Plasmon mediated resonant transmission through an undulated metal film used as information carrier

Jourlin, Y.; Tishchenko, A.V.; Pedri, C.; Reynaud, S.; Tonchev, S.; Parriaux, O.; Last, A.; Mohr, J.; Lacroute, Y.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 170073054
HGF-Programm 43.04.04; LK 01
Seiten 322-23
Erscheinungsvermerk Technical Digest of the 14th Microoptics Conf., Bruxelles, B, September 25-27, 2008 Tokyo : Optical Society of Japan, Microoptics Group, 2008
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