Photolothography of variable depth gratings on a polymer substrate for the mastering of 3D diffractive optical elements

Tonchev, S.; Jourlin, Y.; Reynaud, S.; Guttmann, M.; Wissmann, M.; Krajewski, R.; Joswik, M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2008
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 170073075
HGF-Programm	43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Seiten	160-61
Erscheinungsvermerk	Technical Digest of the 14th Microoptics Conf., Bruxelles, B, September 25-27, 2008 Tokyo : Optical Society of Japan, Microoptics Group, 2008