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Manufacturing of a sputter mask for selective coating of large-area resist structures by microdrilling

Gietzelt, T.; Eichhorn, L.; Guttmann, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-5-87693-374-4
KITopen-ID: 170078816
HGF-Programm 43.13.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Geo-Siberia : Internat.Exhibition and Scientific Congress, Workshop Micro Process Engineering and Nanotechnology, Novosibirsk, Russia, April 27-28, 2010 Proc.S.112-19 Novosibirsk : Siberian State Academy of Geodesy, 2010
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