Manufacturing of a sputter mask for selective coating of large-area resist structures by microdrilling

; Eichhorn, L.; Guttmann, M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2010
Sprache	Englisch
Identifikator	ISBN: 978-5-87693-374-4 KITopen-ID: 170078816
HGF-Programm	43.13.01 (POF II, LK 01) Structuring
Erscheinungsvermerk	Geo-Siberia : Internat.Exhibition and Scientific Congress, Workshop Micro Process Engineering and Nanotechnology, Novosibirsk, Russia, April 27-28, 2010 Proc.S.112-19 Novosibirsk : Siberian State Academy of Geodesy, 2010