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Low-threshold whispering-gallery dye lasers by planar and 3D lithography on silicon

Grossmann, T.; Schleede, S.; Hauser, M.; Beck, T.; Thiel, M.; Freymann, G. von; Mappes, T.; Kalt, H.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/CLEO_SI.2011.CML6
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-557-52910-7
KITopen-ID: 170082692
HGF-Programm 47.01.03 (POF II, LK 01) Biologische Schlüselmoleküle IMT
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO), 2011: 1 - 6 May 2011, Baltimore, Maryland, USA
Veranstaltung CLEO: Science and Innovations (2011), Baltimore, MD, USA, 01.05.2011 – 06.05.2011
Verlag The Optical Society of America (OSA)
Seiten Art.-Nr.: CML6
Serie OSA Technical Digest
Erscheinungsvermerk Conf.on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2011), Baltimore, Md., May 1-6, 2011 Technical Digest on CD-ROM Washington, D.C. : OSA, 2011
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