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Herstellung großflächiger optischer Gitter mittels Röntgentiefenlithographie und anschließender Stapelung

Börner, M.; Hofmann, A.; Hummel, B.; Mohr, J.; Lohrke, H.; Brunner, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Angewandte Informatik (IAI)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2011
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 978-3-8007-3367-5
KITopen ID: 170084662
HGF-Programm 43.16.01; LK 02
Seiten 418-421
Erscheinungsvermerk Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011 Proc.auf CD-ROM Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2011
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