Herstellung großflächiger optischer Gitter mittels Röntgentiefenlithographie und anschließender Stapelung
Börner, M.; Hofmann, A.
; Hummel, B.; Mohr, J.; Lohrke, H.; Brunner, R.
; Hummel, B.; Mohr, J.; Lohrke, H.; Brunner, R.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Informatik (IAI) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISBN: 978-3-8007-3367-5 KITopen-ID: 170084662 |
| HGF-Programm | 43.16.01 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for micro a.nanostruct. |
| Seiten | 418-421 |
| Erscheinungsvermerk | Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011 Proc.auf CD-ROM Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2011 |