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LIGE - Neues von Tiefenlithographie und Abformung

Schulz, J.; Lemke, S.; Mohr, J.; Voigt, A.; Walter, M.; Worgull, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2011
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 978-3-8007-3367-5
KITopen ID: 170084967
HGF-Programm 43.13.01; LK 01
Seiten 142-145
Erscheinungsvermerk Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011 Proc.auf CD-ROM Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2011
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