LIGE - Neues von Tiefenlithographie und Abformung
Schulz, J.
; Lemke, S.; Mohr, J.; Voigt, A.; Walter, M.; Worgull, M.
; Lemke, S.; Mohr, J.; Voigt, A.; Walter, M.; Worgull, M.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISBN: 978-3-8007-3367-5 KITopen-ID: 170084967 |
| HGF-Programm | 43.13.01 (POF II, LK 01) Structuring |
| Seiten | 142-145 |
| Erscheinungsvermerk | Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011 Proc.auf CD-ROM Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2011 |