Microstructure analysis of ALD Bi₂Te₃/Sb₂Te₃ thermoelectric nanolaminates
Nminibapiel, D.; Zhang, K.; Tangirala, M.; Baumgart, H.; Chakravadhanula, V. S. K.; Kübel, C.
; Kochergin, V.
; Kochergin, V.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Helmholtz-Institut Ulm (HIU) Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-62332-101-7 ISSN: 1938-5862 KITopen-ID: 170093569 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Atomic Layer Deposition Applications 9, held during the 224th Meeting of the Electrochemical Society, San Francisco, Calif., October 27 - November 1, 2013. Ed.: F. Roozeboom |
| Verlag | Electrochemical Society |
| Seiten | 59-66 |
| Serie | ECS Transactions ; 58,10 |