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Microstructure analysis of ALD Bi₂Te₃/Sb₂Te₃ thermoelectric nanolaminates

Nminibapiel, D.; Zhang, K.; Tangirala, M.; Baumgart, H.; Chakravadhanula, V.S.K.; Kübel, C.; Kochergin, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-62332-101-7
ISSN: 1938-5862
KITopen ID: 170093569
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Atomic Layer Deposition Applications 9, held during the 224th Meeting of the Electrochemical Society, San Francisco, Calif., October 27 - November 1, 2013. Ed.: F. Roozeboom
Verlag Electrochemical Society, Pennington (N.J.)
Seiten 59-66
Serie ECS Transactions ; 58,10
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