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Influence of secondary effects on the structure quality in deep X-ray lithography

Pantenburg, F.J.; Mohr, Jürgen



Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 17095
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Nuclear Instruments and Methods B
Band 97
Seiten 551-56
Erscheinungsvermerk Nucl. instrum. and meth. in phys. res. B 97 (1995) S. 551-556.
Bemerkung zur Veröffentlichung Sonderdrucknummer 95S184
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