Metal deposition in the nanometer range
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie – Institut für Physikalische Chemie und Elektrochemie (Inst. f. Physikal. Chemie u. Elektrochem.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 180794 |
| Erscheinungsvermerk | Electrochim. acta 39 (1994) S. 1019. |