Layer-by layer formation of heterostructured ultra-thin films by UPD and OPD of metals
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie – Institut für Physikalische Chemie und Elektrochemie (Inst. f. Physikal. Chemie u. Elektrochem.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 181394 |
| Erscheinungsvermerk | J. of electroanal. chem. 376 (1994) S. 179. |