Chemical vapor deposition of silicon nitride filaments from silicon subhydrides and ammonia
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1996 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 19196 |
| Erscheinungsvermerk | J. of the Eur. Ceram. Soc. 16 (1996) S. 15. |