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Widerstand und Uebergangstemperatur supraleitender Vanadium- und Niob-Schichten nach der Implantation verschiedener Ionensorten

Guebler, G.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 1973
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200006685
Erscheinungsvermerk Diplomarbeit, Univ.Karlsruhe 1973
Art der Arbeit Abschlussarbeit - Diplom
Prüfungsdaten 01.01.1973
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