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Infrarotspektrometrische Fluorwasserstoff-Partialdruckmessung im binaeren HF-UF₆-Gemisch und in ternaeren HF-UF₆-H₂ - und HF-UF₆-He-Gemischen

Oeking, K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 1975
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200008406
Erscheinungsvermerk Diplomarbeit, Univ.Karlsruhe 1975
Art der Arbeit Abschlussarbeit - Diplom
Prüfungsdaten 01.01.1975
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