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Untersuchung zur Anwendbarkeit eines plasmagestuetzten Trockenaetz-Verfahrens zur Strukturierung von Masken fuer die Roentgentiefenlithographie

Kadel, K.



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seit 02.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 1987
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200025492
Erscheinungsvermerk Diplomarbeit, Universitaet Karlsruhe 1987
Abschlussart Abschlussarbeit - Diplom
Prüfungsdaten 01.01.1987
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