Untersuchung zur Anwendbarkeit eines plasmagestuetzten Trockenaetz-Verfahrens zur Strukturierung von Masken fuer die Roentgentiefenlithographie
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 1987 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 200025492 |
| Erscheinungsvermerk | Diplomarbeit, Universitaet Karlsruhe 1987 |
| Art der Arbeit | Abschlussarbeit - Diplom |
| Prüfungsdaten | 01.01.1987 |