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Entwicklungsmechanismus und Lösungsmitteleinfluß auf die Entwicklung dicker Photoresistschichten des Diazonaphtochinon/Novolack-Systems

Mono, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 1994
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 200035711
HGF-Programm 41.01.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Diplomarbeit, Universität Erlangen 1994
Abschlussart Abschlussarbeit - Diplom
Prüfungsdaten 01.01.1994
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