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Entwicklungsmechanismus und Lösungsmitteleinfluß auf die Entwicklung dicker Photoresistschichten des Diazonaphtochinon/Novolack-Systems

Mono, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 1994
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200035711
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Diplomarbeit, Universität Erlangen 1994
Art der Arbeit Abschlussarbeit - Diplom
Prüfungsdaten 01.01.1994
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