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Overhauser shift of electron spin resonance line of Si:P at the metal-insulator transition. II. 29Si contribution

Fasol, Ulrike; Dormann, Elmar



Zugehörige Institution(en) am KIT Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1434-6028
KITopen-ID: 20602002
Erschienen in European physical journal B
Verlag Springer
Band 26
Heft 4
Seiten 455-465
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