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Atomic layer deposition and characterization of BiFeO₃ thin films

Leufke, P.; Ellrich, J.; Hahn, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220071077
HGF-Programm 43.03.08; LK 01
Erscheinungsvermerk 72.Jahrestagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft und DPG Frühjahrstagung des Arbeitskreises Festkörperphysik, Fachverband Magnetismus, Berlin, 25.-29.Februar 2008 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.43(2008) MA 32.50
URLs Abstract (PDF)
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