Magnetron sputtering of hard Cr-Al-N-O thin films

Stüber, M.; Albers, U.; Leiste, H.; Seemann, K.

; Ulrich, S.

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seit 19.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2008
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220071564
HGF-Programm	43.03.09 (POF I, LK 01) Mechanische Eigenschaften
Erscheinungsvermerk	35th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, Calif., April 28 - May 2, 2008