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Atomic layer deposition and characterization of bismuth oxide thin films

Leufke, P.M.; Donia, N.; Mathur, S.; Hahn, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220075093
HGF-Programm 43.03.04 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Frühjahrstagung DPG, Fachverband Dielektrische Festkörper, Dresden, 22.-27.März 2009 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.44(2009) DF 6.1
Externe Relationen Volltext/Abstract
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