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Growth of α-(Al,Cr)₂O₃ thin films by reactive r.f.magnetron sputtering

Diechle, D.; Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Schier, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Poster
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220075256
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 36th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, Calif., April 27 - May 1, 2009
Externe Relationen Abstract/Volltext
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