Influence of photo acid generator and their concentration on lithographic results in ultra-deep X-ray lithography

Quiram, S.; Scheunemann, H. U.; Seliger, T.; Berger, M.; Hahn, L.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Gruetzner, G.; Löchel, B.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220076060
HGF-Programm	43.01.06 (POF II, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien
Erscheinungsvermerk	8th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2009), Saskatoon, CDN, June 25-28, 2009 Book of Abstracts