KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Chemical model of Ar/O₂ microwave plasma with nanoparticle formation from metal precursors

Mätzing, H.; Baumann, W.; Paur, H.R.; Seifert, H.

Open Access Logo


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/220076416
Veröffentlicht am 21.10.2019
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Chemie (ITC)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220076416
HGF-Programm 34.01.03 (POF II, LK 01) Gasreinigung
Veranstaltung 19th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2009), Bochum, Deutschland, 26.07.2009 – 31.07.2009
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page