Chemical model of Ar/O₂ microwave plasma with nanoparticle formation from metal precursors
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Technische Chemie (ITC) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220076416 |
| HGF-Programm | 34.01.03 (POF II, LK 01) Gasreinigung |
| Veranstaltung | 19th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25 2009), Bochum, Deutschland, 26.07.2009 – 31.07.2009 |