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Chemical model of Ar/O₂ microwave plasma with nanoparticle formation from metal precursors

Mätzing, H.; Baumann, W.; Paur, H.R.; Seifert, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT ITC – Bereich Thermische Abfallbehandlung (ITC-TAB)
Publikationstyp Poster
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220076416
HGF-Programm 34.01.03 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 19th Internat.Symp.on Plasma Chemistry, Bochum, July 26-31, 2009
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