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Low-stress, adherent cubic boron nitride films with oxygen addition

Ye, J.; Ulrich, S.; Ziebert, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Poster
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220076462
HGF-Programm 43.03.06; LK 01
Erscheinungsvermerk 35th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, Calif., April 28 - May 2, 2008
URLs Abstract (HTML)
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