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Patterning and annealing of nanocrystalline LiCoO₂ thin films

Kohler, R.; Ulrich, S.; Indris, S. ORCID iD icon; Bruns, M.; Trouillet, V.; Pfleging, W. ORCID iD icon


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220077082
HGF-Programm 43.03.07 (POF II, LK 01) Materalien für Energiesysteme
Erscheinungsvermerk European Materials Research Society Spring Meeting, Strasbourg, F, June 8-12, 2009
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