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Doppelseitiger Röntgentiefenlithographie- und Galvanikprozess zur Herstellung von Gittern für die Anwendung in der Phasenkontrast Röntgenoptik

Kenntner, J.; Grund, T.; Börner, M.; Reznikova, E.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 220078642
HGF-Programm 43.04.03; LK 01
Erscheinungsvermerk Deutsche Tagung für Forschung mit Synchrotronstrahlung, Neutronen und Ionenstrahlung an Großgeräten (SNI 2010), Berlin, 24.-26.Februar 2010
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