Doppelseitiger Röntgentiefenlithographie- und Galvanikprozess zur Herstellung von Gittern für die Anwendung in der Phasenkontrast Röntgenoptik
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2010 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220078642 |
| HGF-Programm | 43.04.03 (POF II, LK 01) Röntgenoptik |
| Erscheinungsvermerk | Deutsche Tagung für Forschung mit Synchrotronstrahlung, Neutronen und Ionenstrahlung an Großgeräten (SNI 2010), Berlin, 24.-26.Februar 2010 |