KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Open Access Logo
§
Volltext
DOI: 10.5445/IR/220079129

Iron doped Ba₀̣₆Sr₀̣₄Ti₁₋ₓFeₓO₃ thin films deposited by RF magnetron co-sputtering

Stemme, F.; Gesswein, H.; Azucena, C.; Binder, J.R.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220079129
HGF-Programm 43.12.02 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 12th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2010), Garmisch-Partenkirchen, September 13-17, 2010
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page