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Iron doped Ba₀̣₆Sr₀̣₄Ti₁₋ₓFeₓO₃ thin films deposited by RF magnetron co-sputtering

Stemme, F.; Gesswein, H.; Azucena, C.; Binder, J.R.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220079129
HGF-Programm 43.12.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 12th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2010), Garmisch-Partenkirchen, September 13-17, 2010
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