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RF magnetron co-sputter technology: A possible way to dope Ba₀̣₆Sr₀̣₄TiO₃ thin films

Stemme, F.; Geßwein, H.; Binder, J. R.; Bruns, M.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220079563
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erscheinungsvermerk IMTEK Postersession, Freiburg, 24.Juni 2010
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