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RF magnetron co-sputter technology: A possible way to dope Ba₀̣₆Sr₀̣₄TiO₃ thin films

Stemme, F.; Geßwein, H.; Binder, J.R.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220079563
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk IMTEK Postersession, Freiburg, 24.Juni 2010
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