Self-alignment of block copolymers on chemically patterned substrates
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2010 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220080390 |
| HGF-Programm | 43.11.02 (POF II, LK 01) Electronic transport in nanostructures |
| Erscheinungsvermerk | Frühjahrstagung DPG, Fachverband Chemische Physik und Polymerphysik, Regensburg, 21.-26.März 2010 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.45(2010) CPP 14.23 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |