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Self-alignment of block copolymers on chemically patterned substrates

Heiler, T.; Gröger, R.; Walheim, S.; Schimmel, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220080390
HGF-Programm 43.11.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Frühjahrstagung DPG, Fachverband Chemische Physik und Polymerphysik, Regensburg, 21.-26.März 2010 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.45(2010) CPP 14.23
URLs Abstract (PDF)
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