KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Crystallisation and phase separation of Si₁₋ₓCₓ (x=0.33) films

Volgmann, K.; Gruber, W.; Schmidt, H.; Maus-Friedrichs, W.; Geckle, U.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Poster
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220080410
HGF-Programm 43.15.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Frühjahrstagung DPG, Fachverband Metall- und Materialphysik, Regensburg, 21.-26.März 2010 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.45(2010) MM 26.41
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page